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沉积镀膜仪

   SV沉积镀膜仪是专门为液相(尤其是sol-gel镀膜法)制备薄膜材料工艺的研究工作而设计制造,对不同液体通过浸渍提拉生成薄膜。提拉速度、提拉高度、浸涂时间、镀膜循环次数(多次多层镀膜)、镀膜间隔时间均连续可调、精密控制。SV沉积镀膜仪对镀膜基材形状无特殊要

产品货号:SV 产地:进口 价格:询价 点击数:2391 商家询价

300型钠离子分析仪(钠火焰光度计、钠离子浓度计、浓度分析仪、在线、台式、不锈钢、蒙乃尔合金、PVC材料和硅树脂、单光束分光光度计,使用火焰发射源、单色仪和光电

300型钠离子分析仪(钠离子分析仪、钠火焰光度计、钠离子浓度计、在线钠离子分析仪、台式钠离子分析仪、钠离子浓度分析仪)  (钠火焰光度计、不锈钢、蒙乃尔合金、PVC材料和硅树脂、单光束分光光度计,使用火焰发射源、单色仪和光电倍增探测器)

产品货号:300型钠离子分析仪(钠火焰光度计、钠离子浓度计、浓度分析仪 产地:原装进口300型钠离子分析仪(钠火焰光度 价格:询价 点击数:3369 商家询价

多舱体式等离子体增强化学气相沉积/蚀刻系统 (装载互锁式、PEVCD、ETCH、沉积、薄膜沉积)

多舱体式等离子体增强化学气相沉积(PEVCD)/蚀刻(ETCH)系统、IL-50多舱体式PEVCD/ETCH系统IL-50多舱体式等离子体增强化学气相沉积(PEVCD)/蚀刻(ETCH)系统具有沉积薄膜在光电池上的能力,提供精密的镀膜性能。在不破坏真空的情况下,可以大沉积四种薄膜。

产品货号:IL-50 多舱体式等离子体增强化学气相沉积/蚀刻系统 (装 产地:原装进口 等离子处理系统 价格:询价 点击数:2234 商家询价

近红外粮食谷物饲料宠物食品品质分析仪

麦提查™近红外粮食谷物饲料宠物食品品质分析仪是一款旗舰型近红外(NIR) 近红外粮食谷物饲料宠物食品品质分析仪。麦提查™是一款多功能的近红外(NIR) 粮食谷物饲料宠物食品品质,能够测量分析以透射(小麦、大麦、玉米、稻米、大豆、含油种子等等)或反射模式

产品货号:麦提查™近红外粮食谷物饲料宠物食品品质分析仪 产地:原装进口近红外粮食谷物饲料宠物食品品质分 价格:询价 点击数:1943 商家询价

卷对卷等离子蚀刻系统

产品介绍:P-20R 卷对卷等离子刻蚀系统 P-20R卷对卷等离子系统是一款专门配备连续给料驱动的等离子系统,适用于连续柔性基片及卷装材料。 卷对卷等离子系统可以喂入宽幅为50.8毫米至609毫米,轴径为254毫米的成卷材料。 卷对卷等离子刻蚀系统纵览卷对卷等离子刻蚀系统提

产品货号:P-20R 产地:进口 价格:询价 点击数:1857 商家询价

感应耦合等离子(ICP)刻蚀及沉积系统(深反应离子刻蚀、刻蚀及沉积、低温等离子体增强、化学气相沉积、等离子处理系统)

感应耦合等离子(ICP)刻蚀及沉积、深反应离子刻蚀(DRIE)及低温等离子体增强化学气相沉积(PEVCD)、BM8-III 感应耦合等离子(ICP)刻蚀及沉积系统高性能深反应离子刻蚀(DRIE)及低温等离子体增强化学气相沉积(PEVCD)等离子处理系统

产品货号:BM8-III感应耦合等离子(ICP)刻蚀及沉积系统(深反应 产地:原装进口感应耦合等离子(ICP)刻蚀及沉 价格:询价 点击数:1772 商家询价

等离子体表面改性处理仪

产品介绍:等离子体表面改性处理仪(P-5)P-5等离子体表面改性处理仪是一款经济型的台式等离子体表面改性处理仪,该款台式等离子体表面改性处理仪提供了许多功能,而这些功能是其它竞争设备上无法找到的。PE-5台式等离子体表面改性处理仪是专门为小型生产企业,研发实验

产品货号:P-5 产地:进口 价格:询价 点击数:6001 商家询价

福德查近红外(NIR) 食品成分分析仪

产品介绍:近红外(NIR) 食品分析仪、近红外食品分析仪、近红外(NIR) 食品成份分析仪、近红外(NIR) 食品品质分析仪福德查™近红外(NIR)食品分析仪可配置用于透射或反射的食品分析应用,该近红外(NIR)食品分析仪具有防水密封不锈钢机壳,可方便维护及清洗。专利电磁控

产品货号:福德查近红外(NIR) 食品成分分析仪 产地:原装进口福德查近红外(NIR) 食品成分 价格:询价 点击数:3495 商家询价

台式紧凑型等离子清洗机、小型等离子清洗机、微创伤纳米级等离子清洗机、

GPC-102 A是一款台式紧凑型等离子清洗机,具有体积仅为台式烤箱大小、非破坏性的纳米级清洗的特点,是一款特别适合实验室、超净间及研发机构的理想等离子清洗设备。等离子清洗机采用工艺气体如大气、氩气、氮气、氧气或氦气等作为清洗气体介质,有效避免了因液体清洗剂对

产品货号:GPC-102 产地:美国 价格:询价 点击数:1693 商家询价

反应离子刻蚀/沉积等离子处理系统(反应离子刻蚀(RIE)及等离子体增强化学气相沉积 (PEVCD)系统、 薄膜沉积、刻蚀、表面处理、材料改性、金属刻蚀、粘合促进

BM8-II是一款定义反应离子刻蚀(RIE)及等离子体增强化学气相沉积 (PEVCD)等离子处理新概念的等离子处理系统。BM8-II反应离子刻蚀(RIE)/沉积(PEVCD)等离子处理系统基于模块化设计制造,采用一款通用的真空处理舱及机柜。

产品货号:BM8-II 反应离子刻蚀/沉积等离子处理系统(反应离子刻 产地:原装进口 反应离子刻蚀/沉积等离子处理 价格:询价 点击数:2121 商家询价